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  国家知识产权局信息数据显现，上海新微技能研制中心有限公司请求一项名为“一种复合光刻工艺”的专利，公开号CN121276888A，请求日期为2024年7月。

  专利摘要显现，本发明供给一种复合光刻工艺，其特征是，包含以下过程：S1.供给一基底，所述基底外表具有凹形结构；S2.在所述凹形结构内填充榜首底部抗反射涂层，并进行平整化处理；S3.在填充完所述榜首底部抗反射涂层后，接着涂覆第二底部抗反射涂层；S4.在所述第二底部抗反射涂层上涂覆光刻胶层，并在光刻机中进行曝光；S5.显影后构成所需的光刻图形。经过复合运用两层不同曝光波长对应的抗反射涂层，在深沟槽光刻过程中完成了光刻胶层的均匀曝光，有实际效果的减少了因抗反射涂层不均匀而发生的箭影问题，然后显着提高了图形的边际清晰度以及全体质量。

  天眼查资料显现，上海新微技能研制中心有限公司，成立于2013年，坐落上海市，是一家以从事计算机、通讯和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本144416万人民币。经过天眼查大数据分析，上海新微技能研制中心有限公司共对外出资了21家企业，参加招投标项目484次，产业线条，此外企业还具有行政许可46个。

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